Filtro láser Trumpf con diseño antiestático de membrana ePTFE y tecnología de filtración superficial
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- Tecnología de filtración superficial: atrapa partículas en la superficie, manteniendo un flujo de aire óptimo y una eficiencia
- Diseño antiestático: disipa las cargas estáticas para evitar la adhesión del polvo y reducir los riesgos de chispas
- Medios de poliéster recubiertos de PTFE: Construcción duradera y fácil de limpiar con recubrimiento de teflón libre de residuos
- 99Eficiencia de filtración del 95%: rendimiento líder en la industria para partículas de polvo submicrónicas
- Pinos guía patentados: instalación sin herramientas con alineación precisa
- Sello O-Ring: ajuste hermético evita fugas de bypass
- Funcionamiento integrado en la máquina: intervalos de limpieza almacenados en el control de la máquina para un rendimiento constante
- Mejora de la seguridad de los trabajadores: Captura las emisiones peligrosas del corte láser en la fuente
- Protección contra explosiones: Las propiedades antistaticas reducen los riesgos de ignición en entornos explosivos
- Protección del equipo: Prolonga la vida útil de las lentes, los fuelles y los espejos
- Preparación para el cumplimiento: excede las normas ambientales y de seguridad
- Tiempo de inactividad mínimo: Proceso de sustitución rápido e infalible
| Parámetro | Detalles |
|---|---|
| Principio de filtración | Filtración superficial |
| Característica antiestática | Sí - disipa las cargas estáticas |
| Medios de filtro | Vello de poliéster permeable con recubrimiento de PTFE |
| Eficiencia de filtración | ≥ 99,95% para las partículas de micrómetro |
| Sistemas compatibles | Sistemas de corte y extracción por láser |
| Instalación | Pinos de guía patentados; sello de anillo O |
| Integración de la máquina | Intervalos de limpieza almacenados en el control de la máquina |
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